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 研究了不同化学试剂预处理和暗培养时间对春兰Cymbidium goeringii种子初始萌发时间及萌发率的影响,并从形态学角度观察了种子萌发的过程。无菌条件下,分别采用氢氧化钠和次氯酸钠对春兰种子进行预处理,将不同处理及未处理种子置于相同培养基上不同暗培养时间0,30,60,90,120,150,180 d下进行培养,暗培养后转入光照下继续培养。结果表明:暗培养以后进行光照培养是春兰种子萌发启动所必须的,全光照或全黑暗条件下种子均未萌发,暗培养30 d的种子在光照条件下培养约35 d时开始萌发,初始萌发所需时间最短;化学试剂预处理对种子萌发率的影响显著,氢氧化钠和次氯酸钠处理组种子萌发率均高于对照组。化学试剂预处理与暗培养时间对种子的萌发率存在交互作用,暗培养150 d的氢氧化钠预处理种子萌发率最高为79.2%。春兰种子萌发过程包括以下几个状态:未萌发状态种子、胚吸水膨胀、原球茎、根状茎。图3表1参16  相似文献   
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