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[目的]研究光周期对棉花愈伤组织发生及体胚发生相关基因表达的影响.[方法]利用石蜡切片对不同培养时期下胚轴细胞形态进行观察;RT-PCR技术对体胚发生相关基因表达量进行分析.[结果]石蜡切片观察发现,光处理后继代培养3d的下胚轴在b处理(暗处理3d后光处理3d)下形成层细胞增殖较快;继代培养7d时,新陆早33号、45号、50号和珂字棉312号在皮层部位都观察到次生分生细胞团的出现;其中,新陆早45号在b处理和c处理(暗处理12 h后光处理12 h,培养6d)下以及珂字棉312在四个光周期处理下形成层部位也观测到明显的次生分生细胞团.实时荧光定量PCR表明,光周期b处理下的下胚轴材料GhLEC1、GhSERK1基因相对表达量较高.[结论]光周期b处理更有利于愈伤组织发生,并且该处理下体胚发生相关基因的表达量相对最高.  相似文献   
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