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以桶式Ⅱ型无土栽培装置为对照,桶式无土栽培新装置为处理,研究了新装置根区温湿度的变化以及根系生长状况.结果表明,在苗期和果实成熟期,两栽培装置中基质和气室温度的日变化随着温室气温的变化而变化,变化趋势总体上基本一致,新装置中基质和气室的温度变化的幅度均低于对照.湿度的日变化趋势正好与温度的日变化趋势相反,先是缓慢下降而后又逐渐上升,变化的幅度整体上新装置低于对照.说明在新装置栽培下,基质和气室温湿度受外界光照剧烈变化影响的幅度小于对照,能够更好避免由于高温高湿造成的根系枯死.两种栽培装置的根系生长在苗期没有明显的差异,在果实成熟期差异显著,新装置高于对照. 相似文献
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