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以4年生东北红豆杉幼苗和15年生幼树为试材,通过测定强光处理后叶片叶绿素荧光诱导动力学曲线的方法,对比东北红豆杉幼苗和幼树叶片在强光下的光合响应,分析遮阴解除后红豆杉叶片光系统Ⅱ(PSⅡ)的生理和功能变化,揭示东北红豆杉幼苗和幼树对强光的耐受性,以期为东北红豆杉人工种植中光调控提供参考依据。结果表明:强光处理后,东北红豆杉幼苗和幼树PSⅡ最大光化学效率Fv/Fm明显下降,产生了光抑制,幼树叶片受到光抑制程度较小。强光处理后,东北红豆杉幼苗和幼树叶片2 ms时的相对可变荧光VJ升高,表明PSⅡ受体侧都受到伤害,质体醌(PQ)库容量发生了改变。强光处理后,东北红豆杉幼苗和幼树叶片的活性反应中心的开放程度Ψo和单位反应中心捕获的用于电子传递的能量ETo/RC均表现出下降趋势,而热耗散比例φDo和单位反应中心能量耗散DIo/RC升高,表明红豆杉植株叶片在强光下会通过增加热耗散来保护光合机构。但强光照射后,东北红豆杉幼树叶片与幼苗叶片相比,将更多的能量用于电子传递途径,较少的能量用于热耗散,叶片单位反应中心的光合活性受到伤害程度较轻。综上所述,强光会对遮阴解除后的东北红豆杉叶片PSⅡ造成损伤,但东北红豆杉幼树对强光的耐受程度明显高于幼苗,因此在人工种植东北红豆杉时要注重对幼苗遮阴保护。 相似文献
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