|
|||||
|
|
| 宽台栽培大豆根系特点及施肥位置效应 | |
| 引用本文： | 何庸,孙广玉.宽台栽培大豆根系特点及施肥位置效应[J].现代化农业,1997(9):7-9. |
| 作者姓名： | 何庸 孙广玉 |
| 摘 要： | 根据黑龙江垦区大豆宽台栽培联网试验，以及大豆根系活性在土壤中的动态分布研究优化了大豆的施肥位置，宽台施肥位置为：１．种肥分散在种下２ｃｍ左右，占总肥量的１／４－１／３，用于催苗和壮根；２．基肥施在台上植株行间，深度为５－１５ｃｍ，距两侧主根１５ｃｍ左右，占总肥量的２／３－３／４，用于提高花期，结荚期，鼓粒期的供肥强度。 |
| 关 键 词： | 大豆 宽台栽培 根系活性 施肥位置 栽培 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |