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| 日光温室黄瓜秋冬茬高产栽培适宜密度的研究 | |
| 引用本文： | 艾民,何莉莉,陈晓磊.日光温室黄瓜秋冬茬高产栽培适宜密度的研究[J].农业工程技术:农产品加工,2005(2):18-21. |
| 作者姓名： | 艾民 何莉莉 陈晓磊 |
| 作者单位： | 沈阳农业大学园艺学院 110161 (艾民，何莉莉)，沈阳农业大学园艺学院 110161(陈晓磊) |
| 摘 要： | 该试验通过4个密度处理,探讨了提高北方保护地秋冬茬黄瓜产量的适宜栽培密度。结果表明,随着种植密度的减小,植株所受的光照度及地温逐渐升高;茎粗逐渐增加,节数,叶面积指数(LAI)和株高逐渐减小,根系活力呈上升趋势;功能叶片净光合速率及各层次叶片净光合速率逐渐增加;产量也逐渐增加。经过秋冬季节,历时4个月的栽培,其中株距为35cm,大行距为70cm,小行距为60cm,密度为每hm24.43万株,产量提高(为3075Kg/667m2);该密度条件下,植株的环境指标、生长发育指标、光合指标、品质指标和产量都表现出较高的水平。 |
| 关 键 词： | 日光温室 秋冬茬 黄瓜 高产 适宜密度 |
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