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温室立体栽培黄瓜和黑木耳
引用本文:郝秀军.温室立体栽培黄瓜和黑木耳[J].北方园艺,1989(1).
作者姓名:郝秀军
作者单位:铁力农场多种经营开发公司
摘    要:一、立体栽培黄瓜和黑木耳的技术关键 (一) 整畦技术:作畦底宽90cm,顶宽80cm,南北垅,畦长5m,高15cm的栽培床,在其床中间作成长5m,宽50cm,高10cm的食用菌床,畦两侧有宽20cm,

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