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水稻耐光氧化特性的QTL定位
引用本文:姜华,姜亮,赵江红,郭龙彪,孙焕明,薛大伟,曾龙军,曾大力,梁国华,钱前.水稻耐光氧化特性的QTL定位[J].中国水稻科学,2008,22(1):38-44.
作者姓名:姜华  姜亮  赵江红  郭龙彪  孙焕明  薛大伟  曾龙军  曾大力  梁国华  钱前
作者单位:1.扬州大学 教育部植物功能基因组学重点实验室, 江苏 扬州 225009; 2中国水稻研究所 水稻生物学国家重点实验室, 浙江 杭州310006; 3浙江大学 农业与生物技术学院 农学系, 浙江 杭州 310029
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2005CB102807):国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2006AA10A102).
摘    要:利用由127个株系组成的来源于籼稻品种窄叶青8号和粳稻品种京系17的加倍单倍体群体,以耐性指数和敏感性指数为指标,采用QTL Mapper 1.6统计软件进行水稻耐光氧化反应特性的QTL定位和上位性分析,共检测到控制耐性指数的1个加性效应QTL,位于第3染色体上;控制敏感性指数的加性效应QTL 5个,分别位于第1、1、6、8和9染色体上。还检测到3对影响耐性指数的加性×加性上位性互作效应QTL和5对敏感性指数的上位性QTL。还对41个水稻材料进行了光氧化实验筛选。

关 键 词:水稻  光氧化  加倍单倍体群体  数量性状座位  耐性指数  敏感性指数  
文章编号:1001-7216(2008)01-0038-07
收稿时间:2007-03-19
修稿时间:2007-08-17

QTL Mapping of Tolerance to Photooxidation in Rice
JIANG Hua,JIANG Liang,ZHAO Jiang-hong,GUO Long-biao,SUN Huan-ming,XUE Da-wei,ZENG Long-jun,ZENG Da-li,LIANG Guo-hua,QIAN Qian.QTL Mapping of Tolerance to Photooxidation in Rice[J].Chinese Journal of Rice Science,2008,22(1):38-44.
Authors:JIANG Hua  JIANG Liang  ZHAO Jiang-hong  GUO Long-biao  SUN Huan-ming  XUE Da-wei  ZENG Long-jun  ZENG Da-li  LIANG Guo-hua  QIAN Qian
Abstract:A doubled haploid (DH) population including 127 lines, derived from the cross between an indica rice Zhaiyeqing 8 and a japonica rice Jingxi 17 was used to detect quantitative trait loci (QTLs) of tolerance to photooxidation. One QTL controlling tolerance index (TI) was detected on chromosome 1 and five QTLs controlling sensitivity index (SI) for photooxidation tolerance were mapped on chromosomes 1, 1, 6, 8 and 9, respectively. Meanwhile, eight pairs of epistatic loci affecting TI and SI were also detected (three pairs for TI and five pairs for SI). Besides, 41 rice varieties were indentified for photooxidation tolerance and sensitivity indices.
Keywords:rice  photooxidation  doubled haploid population  quantitative trait locus  tolerance index  sensitivity index
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