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| 自控温室黄瓜茎蔓,叶片生长与有效积温关系的研究 | |
| 引用本文： | 杨秋珍,李军.自控温室黄瓜茎蔓,叶片生长与有效积温关系的研究[J].生态农业研究,2000,8(4):4-6. |
| 作者姓名： | 杨秋珍 李军 |
| 作者单位： | 上海市气象科学研究所,上海 |
| 摘 要： | 研究了引进自控温室荷兰黄瓜叶片、茎蔓生长规律及与温室气候环境的关系。结果表明，与黄瓜茎蔓、叶片生长进程关系最密切的因子为１２～２５℃有效积温；叶片生长对温度反应呈非线性，１３～１９节位出叶所需１２～２５℃有效积温最少，平均每长１叶仅需１０．６～１０．９℃有效积温，比定植～５叶期少１／２以上。其他各节位每出１叶所需积温分别是定值～５叶为２９．１℃，５～１０叶为１５．３℃，１０～１５叶为１１．３℃，１ |
| 关 键 词： | 有效积温 荷兰黄瓜 茎蔓 叶片 自控温室 |
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