影响瓠瓜种子"戴帽"出苗的因素分析 |
| |
引用本文: | 邹礼平,邓万莉,高和平.影响瓠瓜种子"戴帽"出苗的因素分析[J].种子世界,2001(4):22-23. |
| |
作者姓名: | 邹礼平 邓万莉 高和平 |
| |
作者单位: | 湖北省孝感学院,孝感,432100 |
| |
摘 要: | 以孝感瓠瓜种子为材料,研究了覆土厚度和播置方式对瓠瓜种子“戴帽”出苗率的影响,结果表明,适当增大覆土厚度可以降低种子的“戴帽”出苗率;平置种子的“戴帽”出苗率显著高于竖置种子的“戴帽”的出苗率。
|
关 键 词: | 瓠瓜 覆土厚度 插置方式 “戴帽”出苗率 |
Element Analysis of Capped Seedling of Melon |
| |
Abstract: | |
| |
Keywords: | |
本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录! |
|