首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

影响瓠瓜种子"戴帽"出苗的因素分析
引用本文:邹礼平,邓万莉,高和平.影响瓠瓜种子"戴帽"出苗的因素分析[J].种子世界,2001(4):22-23.
作者姓名:邹礼平  邓万莉  高和平
作者单位:湖北省孝感学院,孝感,432100
摘    要:以孝感瓠瓜种子为材料,研究了覆土厚度和播置方式对瓠瓜种子“戴帽”出苗率的影响,结果表明,适当增大覆土厚度可以降低种子的“戴帽”出苗率;平置种子的“戴帽”出苗率显著高于竖置种子的“戴帽”的出苗率。

关 键 词:瓠瓜  覆土厚度  插置方式  “戴帽”出苗率

Element Analysis of Capped Seedling of Melon
Abstract:
Keywords:
本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号