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水稻叶片光氧化敏感性与活性氧清除系统的关系
引用本文:邵红宁,傅春霞,曹显祖.水稻叶片光氧化敏感性与活性氧清除系统的关系[J].作物学报,1998,24(5):577-583.
作者姓名:邵红宁  傅春霞  曹显祖
作者单位:江苏省农林厅,江苏南京,210009
摘    要:用低O_2,低CO_2、光强269μE·m~(-2)·s(-1)的人工光氧化条件处理水稻叶片,观察了不同耐光特性品种叶片的光合速率、叶绿素含量及其组份和活性氧清除系统的差异。结果表明,不同光氧化耐性的水稻品种比较,以耐光氧化的品种受影响较小。光氧化条件下叶片活性氧清除系统中的超氧物歧化酶、过氧化物酶活性及类胡萝卜素和抗坏血酸水平降低,而膜脂过氧化作用加强。处理4~8天,不同品种间以耐光氧化品种的保护酶活性、抗光氧化物质水平下降及丙二醛含量上升的幅度较小。

关 键 词:水稻  品种  光氧化  活性氧  清除系统  叶片  敏感性
收稿时间:1996-09-05
修稿时间:1997-11-20

Photooxidation Sensitivity in Relation to the Scavenging System of Active Oxygen in Rice
Shao Hongning Fu Chunxia Cao Xianzu.Photooxidation Sensitivity in Relation to the Scavenging System of Active Oxygen in Rice[J].Acta Agronomica Sinica,1998,24(5):577-583.
Authors:Shao Hongning Fu Chunxia Cao Xianzu
Institution:Agriculture and Forestry Bureau of Jiangsu Province,mNanjing,210009
Abstract:
Keywords:Photooxidation  Scavenging system of active oxygen  Rice lipidj peroxida-tion
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