| 间套作条件下人物根系数量与活性的空间分布及变化规律研究：Ⅱ．间作早春玉米根系数量与活性的空间分布及变化规律 |
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| 引用本文： | 赵秉强,张福锁,等.间套作条件下人物根系数量与活性的空间分布及变化规律研究：Ⅱ．间作早春玉米根系数量与活性的空间分布及变化规律[J].作物学报,2001,27(6):974-979. |
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| 作者姓名： | 赵秉强 张福锁 |
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| 作者单位： | [1]中国农业科学院土壤肥料研究所，北京100081 [2]中国农业大学，北京100094 |
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| 摘 要： | 本文在冬小麦||早春玉米／夏玉米条件下，研究了麦田间作地膜覆盖早春播种玉米（简称早春玉米）根系数量与活性的空间分布及变化规律，主要结果：（1）间作地膜覆盖早春玉米拔节期根深100cm左右，大口期140cm左右，乳熟期达到最大根深160cm左右。（2）随生育进程推进，根量与根重密度基本呈小→大→小变化；根系数量及重量密度在垂直土体中呈“T”型分布，0－20cm为高密度层，20－40，40－80cm为中密度层，80－120cm为低密度层，120－160cm为稀密度层。根系相对稳定后，约有75％的根干重分布在0－20cm土层，85％左右在40cm以上，95％左右在80cm以上。（3）根系含水率在垂直空间呈上低下高趋势，随生育期推进，含水率呈下降趋势。（4）根系活性与根量相反呈倒“T”型分布，根系活性随生育进程推进，呈减低趋势，且活力高低点又呈下移变化，拔节期20－40cm根系活性较高，大口期40cm以下较高，乳熟期和成熟期以80cm以下较高。（5）根系TTC还原总量及总量密度随生育进程推进呈低→高→低变化。以大口期为高。上下又呈“T”型分布，0－20cm为高量高密度区，20－80cm为中量中密度区，80－120cm为低量低密度区，120－160cm为稀量稀密度区。（6）成熟期20cmc以下土层根系活性具有反弹上升现象。
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| 关 键 词： | 间套作 根系 早春玉米 数量 活性 空间分布 |
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