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| CH_3OD在Si(111)表面上的TDS研究 | |
| 引用本文： | 王祝盈,K.D.Brzoska.CH_3OD在Si(111)表面上的TDS研究[J].湖南农业大学学报(自然科学版),1991,18(2). |
| 作者姓名： | 王祝盈 K.D.Brzoska |
| 作者单位： | 湖南大学应用物理系 (王祝盈)，莱比锡大学物理研究所(K.D.Brzoska) |
| 摘 要： | 本文运用热脱吸附谱方法(TDS)研究了室温下CH_3OD在Si(Ⅲ)表面上的吸附,对所取得的H_2, HD及D_2的热脱吸附谱进行了分析和比较,并计算出它们的脱吸附能和预指数因子. |
| 关 键 词： | 吸附 热脱附 表面温度/脱附能 预指数因子 |
A TDS Study of CH_3OD on Si(111) Surface |
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| Wang Zhuying.A TDS Study of CH_3OD on Si(111) Surface[J].Journal of Hunan Agricultural University,1991,18(2). | |
| Authors: | Wang Zhuying |
| Abstract: | The adsorption of deuterated methanol (CH_3OD) on Si (111) surface has been studied by means of thermal desorption spectrum (TDS). The desorption spectra of H_2, D_2 and HD have been analyzed in detail and compared with each other. Their desorption energi |
| Keywords: | adsorption thermal desorption surface temperature/desorption energy pre-exponential factor |
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